ZLF直通式TCU

設備應用及配套設備：設備主要為反應釜提供冷熱源，廣泛應用于醫藥、 精細化工等領域的加熱、冷卻、保溫、結晶、濃縮、干燥等反應。

TCU控溫系統采用現有的熱能（如蒸汽、冷卻水或超低溫液體——即“初級系統”）集成到用來控制工藝設備溫度的單流體系統或二級回路中，構成單熱傳導液體在反應容器夾套中的非接觸式溫度控制系統。

單流體控溫，用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制，可實現-120℃~300℃控溫； 避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求；

產品概述：

采用現有的熱能（如蒸汽、冷卻水及超低溫液體——即“初級系統”）基礎設施集成到用來控制工藝設備溫度的單流體系統或二級回路中。這就完成了只有一種熱傳導液體流入到反應容器的夾套中（而不是直接通入蒸汽、冷卻水或超低溫液體）。通過運算控制整個反應過程溫度。

使用單流體熱傳遞控溫系統的優點：
A、用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制，可實現-120度～300度控溫；
B、避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很??；
C、內置電加熱導熱油輔助系統，可根據需求自動開啟輔助加熱系統，降低蒸汽使用壓力；
D、可以通過快速運行準確配比各熱量需求，達到節約能源目的；
E、通過準確快速運算控制整個反應過程溫度，對于整個反應過程中出現放熱和吸熱反應進行快速響應控制；
F、預留有標準化接口，可根據實際需求增加冷熱源換熱模塊；